摘要: 目前瓷砖抛光生产线存在过度抛光、能耗虚高等问题,亟须优化瓷砖抛光生产工艺以降低能耗。基于磨盘运动规律和Preston方程,建立瓷砖抛光材料去除公式及能耗模型,以仿真实验刻画瓷砖质量及能耗在抛光生产中的演变过程,研究了皮带传送速度、横梁摆动速度和磨盘转速等运动参数对过度抛光行为和能耗的影响。研究表明,瓷砖抛光的厚度方差是先下降后上升的过程,存在一组运动参数区间,使得达标能耗显著低于抛光过程的总能耗。
中图分类号:
杨海东, 郭承军, 李弘, 刘国胜, 伍嘉文. 瓷砖抛光能耗仿真建模研究[J]. 系统仿真学报, 2016, 28(4): 765-771.
Yang Haidong, Guo Chengdun, Li Hong, Liu Guosheng, Wu Jiawen. Study of Model and Simulation on Ceramic Tile Polishing Energy Consumption[J]. Journal of System Simulation, 2016, 28(4): 765-771.